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低气压等离子体增强化学气相沉积系统
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****月政府采购意向-低气压等离子体增强化学气相沉积系统 详细情况
| 低气压等离子体增强化学气相沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr****0801 |
| 采购项目名称： | 低气压等离子体增强化学气相沉积系统 |
| 预算金额： | 1750.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
满足大规模芯片离子阱中电子学层和光波导的薄膜生长需求，保障薄膜均匀性、致密性等。满足衬底12英寸，氮化硅薄膜厚度均匀性5%@100nm，工艺室极限真空≤10mTorr
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| 预计采购时间： | 2026-08 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-09-22
2026-06-16
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