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原子层沉积设备(ALD)、等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)和刻蚀设备等半导体设备生产线项目装修工程

审批

浙江-湖州-安吉县

发布时间： 2026年06月24日

项目详情

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建筑工程施工许可证电子证照信息

工程名称	原子层沉积设备(ALD)、等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)和刻蚀设备等半导体设备生产线项目装修工程	建设地址	省市安递铺街道光侧、绕路东侧两山高新小微(共富)产业园10号楼1层
工程项目编号	****	施工许可证电子证照编号	330********6160101
项目分类	房屋建筑工程	项目属地	市安
建设单位	****	建设单位代码	****0523MAK58LK9XB
建设单位项目负责人	金铁牛	项目负责人证件号码	**23197****18
计划开工日期	2026年5月28日	计划竣工日期	2026年9月28日
合同价格（万元）	758	总面积（平方米）	5171.51
合计地上面积（平方米）	5171.51	合计地下面积（平方米）	-
发证机关	****建设局	发证机关代码	113********0110953
签发日期	****0616	管理属地	市安
建设规模	面积：5171.51平方米

参加单位信息

承担角色单位名称企业统一社会信用代码负责人姓名项目负责人证件号码

设计	****设计院有限公司	913********496623F	方忠华	**23197****10
施工	****公司	****0523MA28CHC81K	杨潇	**25198****11

单体项目信息

单体名称单体参数单体其他参数

10#楼

地上面积5171.51平方米，地上层数1层，地下层数0层，面积5171.51平方米

5171.51，0

温馨提示

1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展，属于前期项目。

2.根据该项目的描述，可依据自身条件进行选择和跟进，避免错过。

3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设，也可继续跟踪，项目可能还有其他相关后续工程与服务。

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