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无掩膜激光直写光刻机
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***********公司企业信息
****2026年7至8月政府采购意向-无掩膜激光直写光刻机 详细情况
| 无掩膜激光直写光刻机 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年7至8月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 无掩膜激光直写光刻机 |
| 预算金额： | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
光学计量仪器
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| 采购需求概况 ： |
****拟采购无掩膜激光直写光刻机一套。主要采购需求如下：（1）工作方式：无掩膜激光直写光刻；（2）最大曝光面积：≤150mm*150mm；（3）最大基板厚度：10mm；（4）极限解析：≤600nm；（5）套刻精度：≤800nm@2inch；（6）主动聚焦范围：≥±100μm；（7）线宽均匀性：≤80nm@CD800nm；（8）最大产能：≥50mm2/****@0.8μm；（9）光源：LD光源，功率3W，波长375nm；（10）具备自动对准功能、可视化定点曝光功能以及不规则样片曝光功能；（11）质保期：1年。
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| 预计采购时间： | 2026-08 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-06-26
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