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| 磁控溅射设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年6至12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 磁控溅射设备 |
| 预算金额: | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
采购高端磁控溅射设备1台,真空获得系统、溅射电源、溅射靶材等核心部件选用一线品牌,适配纳米级多层精密薄膜制备,以保障膜层均匀性偏差≤±3%、致密度≥98%、稳定性偏差≤±3%的要求。设备要求全无油真空系统,极限真空优于8x10^-6 Pa,搭载全自动智能控制系统,满足严苛高精度镀膜工艺要求。整机符合工业安全标准,供方提供上门安装调试、实操培训,整机质保不少于2年,7×24小时售后响应;合同签订90日内完成送货、装机并通过镀膜工艺验收。
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| 预计采购时间: | 2026-09 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写