磁控溅射设备

发布时间: 2026年06月29日
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****2026年6至12月政府采购意向-磁控溅射设备 详细情况
磁控溅射设备
项目所在采购意向: ****2026年6至12月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 磁控溅射设备
预算金额: 200.000000万元(人民币)
采购品目:
A****2402真空应用设备
采购需求概况 :
采购高端磁控溅射设备1台,真空获得系统、溅射电源、溅射靶材等核心部件选用一线品牌,适配纳米级多层精密薄膜制备,以保障膜层均匀性偏差≤±3%、致密度≥98%、稳定性偏差≤±3%的要求。设备要求全无油真空系统,极限真空优于8x10^-6 Pa,搭载全自动智能控制系统,满足严苛高精度镀膜工艺要求。整机符合工业安全标准,供方提供上门安装调试、实操培训,整机质保不少于2年,7×24小时售后响应;合同签订90日内完成送货、装机并通过镀膜工艺验收。
预计采购时间: 2026-09
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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2026-06-29
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