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12吋介质化学气相沉积系统
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***********公司企业信息
****2026年9至11月政府采购意向-12吋介质化学气相沉积系统 详细情况
| 12吋介质化学气相沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年9至11月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 12吋介质化学气相沉积系统 |
| 预算金额： | 1300.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300-电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
主要用于实现氧化硅（SiO）、氮化硅（SiN）薄膜沉积，采用原子层沉积（ALD）的沉积模式。膜厚范围：50～200 ；工艺温度范围：570～630℃。沉积速率范围：≥1.5/分钟（ALD模式），折射率范围：1.99～2.01，颗粒：<30 @>0.037um，湿法腐蚀速率：≤10 /min@1%HF，台阶覆盖率：≥95%。 晶圆内厚度均匀性：<1.5%，晶圆间厚度均匀性：<1.5% ，批间厚度均匀性：<1.5%。
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| 预计采购时间： | 2026-11 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-06-30
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