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预算超4.2亿元！中科院微电子研究所采购大批半导体工艺设备
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近日，****研究所发布多项仪器设备采购意向，计划采购12吋等离子增强化学气相沉积设备、12吋内侧墙干法刻蚀系统、12吋前段单片清洗机、12吋湿法刻蚀机、低介电常数介质热原子层沉积系统、大束流低能离子注入机、高温炉管系统、介质化学机械抛光系统等核心工艺设备，覆盖薄膜沉积、图形刻蚀、晶圆清洗、离子掺杂、高温热处理、晶圆平坦化等集成电路制造关键工艺环节，同时包含光学膜厚仪等工艺检测设备，预算总金额42539万元。预计采购时间从2026年7月持续至11月。
****政府采购的初步安排，具体****学院****研究所发布的采购公告和采购文件为准，有意向的企业可持续关注其发布的招标信息。标书代写
| ****研究所采购意向汇总表 |
|||
| 序号 |
采购项目名称 |
预算金额（万元） |
预计采购时间 |
| 1 |
12吋等离子增强化学气相沉积设备 |
3600 |
2026年7月 |
| 2 |
12吋光学膜厚仪 |
1200 |
|
| 3 |
12吋非晶硅与多晶硅化学气相沉积系统 |
1150 |
|
| 4 |
12吋内侧墙干法刻蚀系统 |
4980 |
|
| 5 |
12吋前段单片清洗机 |
6000 |
|
| 6 |
12吋湿法刻蚀机 |
4890 |
|
| 7 |
等离子增强化学气相沉积设备 |
3600 |
|
| 8 |
光学膜厚仪 |
1000 |
|
| 9 |
12吋低介电常数介质热原子层沉积系统 |
1850 |
2026年8月 |
| 10 |
12吋单片晶背清洗机 |
2430 |
2026年9月 |
| 11 |
高介电常数介质原子层沉积工艺设备 |
2694 |
|
| 12 |
12吋大束流低能离子注入机 |
3365 |
|
| 13 |
12吋高温炉管系统 |
1280 |
2026年11月 |
| 14 |
12吋介质化学气相沉积系统 |
1300 |
|
| 15 |
12吋介质化学机械抛光系统 |
3200 |
|
| 合计 |
42539 |
|
|
| 来源：中国政府采购网 |
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2026-07-02
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