高真空多靶磁控溅射镀膜机采购项目采购公告

是否接受进口

拒绝进口

品牌

无推荐品牌

型号

无推荐型号

技术规格及参数

1.真空腔室：尺寸Ф500×H420mm，SUS304优质不锈钢，前开门结构，门框开口≥400×400mm；
2.基片台：尺寸Φ150mm，基片旋转：0～20转/分钟；加热:室温～500±1℃，转速及温度可控可调。
3.真空系统：分子泵（抽速≥1200L/S）+直联旋片泵(抽速≥8L/S)+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计；
4.真空度：极限真空≤6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）；漏率设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压停泵12小时候后，真空≤10Pa；抽速从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min；
5.溅射系统：2台1KW直流脉冲电源，1套600W射频电源，1台0-1KV脉冲偏压电源；配3套3英寸永磁共焦磁控溅射靶,可溅射磁性材料，角度、高度免拆卸可调，配独立挡板；采用磁控靶从下向上溅射镀膜；
6.气路系统；质量流量控制器，氩、氮、氧各一路，配混气管和截止阀；
7.自动恒压系统：薄膜规（0.1Torr）+电机驱动控制阀+控制软件闭环自动控制；保持镀膜时工艺压力稳定；
8.膜厚不均匀性：≤±4%（单靶Φ150mm范围内）；
9.控制方式：PLC+触摸屏控制系统，可实现自动镀膜；
10.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统
11.辅助附件：配制冷量≥5.17KW冷却循环水机和最大流量≥110L/min静音无油空压机；1.真空腔室：尺寸Ф500×H420mm，SUS304优质不锈钢，前开门结构，门框开口≥400×400mm；
2.基片台：尺寸Φ150mm，基片旋转：0～20转/分钟；加热:室温～500±1℃，转速及温度可控可调。
3.真空系统：分子泵（抽速≥1200L/S）+直联旋片泵(抽速≥8L/S)+高真空阀门组合的高真空系统，数显复合真空计；
4.真空度：极限真空≤6.0×10-5Pa（空载，经烘烤除气后）；漏率设备升压率≤0.8Pa/h；设备保压停泵12小时候后，真空≤10Pa；抽速从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min；
5.溅射系统：3台1KW直流脉冲电源，1套600W射频电源，1台0-1KV脉冲偏压电源；配3套3英寸永磁共焦磁控溅射靶,可溅射磁性材料，角度可调，配独立挡板；采用磁控靶从下向上溅射镀膜；
6.气路系统；质量流量控制器，氩、氮、氧各一路，配混气管和截止阀；
7.自动恒压系统：薄膜规（0.1Torr）+电机驱动控制阀+控制软件闭环自动控制；保持镀膜时工艺压力稳定；
8.膜厚不均匀性：≤±4%（单靶Φ150mm范围内）；
9.控制方式：PLC+触摸屏控制系统，可实现自动镀膜；
10.报警及保护：对泵、电极等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统
11.辅助附件：配制冷量≥5.17KW冷却循环水机和最大流量≥110L/min静音无油空压机；

质保期

整机质保2年，合同签订后1个月内交付；

售后要求

整机质保2年，****公司进行技术支持的正式通知（含电话或邮件通知）后，我公司技术人员于48小时内，赶到技术服务现场；