磁控溅射台

发布时间: 2026年07月13日
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****2026年8月政府采购意向-磁控溅射台 详细情况
磁控溅射台
项目所在采购意向: ****2026年8月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 磁控溅射台
预算金额: 94.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0100电工生产设备
采购需求概况 :
磁控溅射台,1台,本设备为单室高真空系统,用于溅射各种金属膜、合金膜、介质膜等,主要由真空系统、气路系统、电气系统、射频及直流电源系统、冷却系统、报警系统、自动控制系统等组成, 极限真空: 6.6×10-5Pa ,溅射材料: 各种金属膜、合金膜、介质膜等,反应室规格≥φ450×350mm。供货期:签订合同之日起,120个日历日内货到采购人指定地点并安装验收完毕(包括供货、安装、调试、培训、验收合格所需时间)。具体事宜由成交供应商按采购人指定地点及时间安排要求执行。
预计采购时间: 2026-08
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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