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原子层刻蚀系统
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4500000.00
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***********公司企业信息
****2026年08月政府采购意向-原子层刻蚀系统 详细情况
| 原子层刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年08月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 原子层刻蚀系统 |
| 预算金额： | 450.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
能够高质量完成结晶IGZO薄膜、HfO2、ZrO2等高 k 介质原子层刻蚀，单循环刻蚀量≤0.1nm，精准控深；IGZO/HfO2异质层刻蚀选择比≥50:1，侧壁倾角≥85°，各向异性优异，适配高深宽比微纳加工；等离子损伤低，≥0.2μm 新增颗粒≤0.3 个 /cm3，器件场效应迁移率可达 90cm2V-1s-1 以上。
|
| 预计采购时间： | 2026-08 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2026-07-16
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