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| **** | 建设单位代码类型:|
| ****0684MACFYRFK0E | 建设单位法人:张兴飞 |
| 严佳杰 | 建设单位所在行政区划:******区 |
| **省南****开发区**街道**路333-1号 |
| 年产1680万颗元宇宙用微纳光学器件、5040块光掩膜版产品**项目(一期) | 项目代码:**** |
| 建设性质: | |
| 2021版本:080- | 行业类别(国民经济代码):C3973-C3973-集成电路制造 |
| 建设地点: | ******区 ******区 |
| 经度:121.102500 纬度: 31.841389 | ****机关:****区管委会 |
| 环评批复时间: | 2024-01-11 |
| 海开审环〔2024〕3号 | 本工程排污许可证编号:****0684MACFYRFK0E001W |
| 2024-01-12 | 项目实际总投资(万元):2000 |
| 170 | 运营单位名称:**** |
| ****0684MACFYRFK0E | 验收监测(调查)报告编制机构名称:**** |
| ****0684MACFYRFK0E | 验收监测单位:**泰洁****公司 |
| 913********278131Y | 竣工时间:2025-12-01 |
| 调试结束时间: | |
| 2026-06-11 | 验收报告公开结束时间:2026-07-10 |
| 验收报告公开载体: | https://www.****.com/gs/detail/2?id=60611s0JdL |
| ** | 实际建设情况:** |
| 无变动 | 是否属于重大变动:|
| 元宇宙用微纳光学器件 1680 万颗/a、光掩膜版 5040 块/a | 实际建设情况:元宇宙用微纳光学器件 1680 万颗/a、光掩膜版 5040 块/a |
| 无变动 | 是否属于重大变动:|
| 工艺流程: 订单输入-数据准备-涂胶-烘焙-曝光-显影-干法刻蚀-去胶-套准测量-缺陷检查-修板-清洗-贴膜-贴膜后缺陷检查-出货前质检-出货 订单输入-数据准备-涂胶-烘焙-曝光-显影-干法刻蚀-去胶-套准测量-缺陷检查-修板-清洗-贴膜-贴膜后缺陷检查-出货前质检-出货 其中去胶工序使用RS-120去胶剂 | 实际建设情况:工艺流程: 订单输入-数据准备-涂胶-烘焙-曝光-显影-干法刻蚀-去胶-套准测量-缺陷检查-修板-清洗-贴膜-贴膜后缺陷检查-出货前质检-出货 订单输入-数据准备-涂胶-烘焙-曝光-显影-干法刻蚀-去胶-套准测量-缺陷检查-修板-清洗-贴膜-贴膜后缺陷检查-出货前质检-出货 其中去胶工序使用清洗剂 |
| 变动情况:去胶工序使用清洗剂代替 RS-120去胶剂;清洗工序部分产品取消酸洗碱洗,改为清洗剂清洗 变动原因:降低生产成本 | 是否属于重大变动:|
| 废气:刻蚀废气经设备自带吸附装置+一级碱喷淋+25 米排气筒1#排放,清洗废气经一级水喷淋+25 米排气筒 1#排放,上胶、显影、去胶、擦拭、危废库废气经两级活性炭吸附装置+15 米排气筒 2#排放 废水:本项****处理站处理、生活污水经化粪池处理后接管至南****开发区污水处理厂集中处理。厂区废水总排口设置流量、pH、COD、氨氮在线监测,车间排口(喷淋废水及清洗废水总排口)设置总铬、六价铬在线监测,雨水排口设置总铬在线监测。 | 实际建设情况:废气:刻蚀废气经设备自带吸附装置+一级碱喷淋+25 米排气筒1#排放,清洗废气经一级水喷淋+25 米排气筒 1#排放,上胶、显影、去胶、擦拭、危废库废气经两级活性炭吸附装置+15 米排气筒 2#排放 废水:本项****处理站处理、生活污水经化粪池处理后接管至南****开发区污水处理厂集中处理。车间排口(喷淋废水及清洗废水总排口)设置总铬在线监测,雨水排口设置总铬在线监测。 |
| 变动情况:取消厂区废水总排口流量、pH、COD、氨氮、在线监测,取消车间排口六价铬在线监测 原因:本项目为登记管理,依据排污许可申请与《核发技术规范 电子工业》(HJ1031-2019)及《排污单位自行监测技术指南 电子工业》(HJ 1253-2022),本项目为非重点排污单位,未要求生产废水总排口设置流量、pH、COD、氨氮及 车间排口六价铬总铬在线监测设备。 | 是否属于重大变动:|
| 无 | 实际建设情况:无 |
| 无 | 是否属于重大变动:|
| 0 | 0.6644 | 0.6616 | 0 | 0 | 0.664 | 0.664 | |
| 0 | 0.1503 | 0.5704 | 0 | 0 | 0.15 | 0.15 | |
| 0 | 0.0062 | 0.0602 | 0 | 0 | 0.006 | 0.006 | |
| 0 | 0.0011 | 0.0014 | 0 | 0 | 0.001 | 0.001 | |
| 0 | 0.0252 | 0.1134 | 0 | 0 | 0.025 | 0.025 | |
| 0 | 0.0309 | 0.2503 | 0 | 0 | 0.031 | 0.031 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0.0077 | 0.06 | 0 | 0 | 0.008 | 0.008 | / |
| 0 | 0.0035 | 0.084 | 0 | 0 | 0.003 | 0.003 | / |
| 0 | 0.0119 | 0.1826 | 0 | 0 | 0.012 | 0.012 | / |
| 0 | 0.0001 | 0.0001 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 1 | 污水处理站(调节池+ 二级过滤) | 《半导体行业污染物排放标准》(DB3/3747-2020) | 污水处理站(调节池+ 二级过滤) | 达标排放 | |
| 2 | 化粪池 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB3/3747-2020) | 化粪池 | 达标排放 |
| 1 | 蚀刻废气经设备自带吸附装置+一 级碱喷淋+1#排气筒排放 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB3/3747-2020) | 蚀刻废气经设备自带吸附装置+一 级碱喷淋+1#排气筒排放 | 达标排放 | |
| 2 | 清洗废气经一级水喷淋+1#排气筒排放 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB3/3747-2020) | 清洗废气经一级水喷淋+1#排气筒排放 | 达标排放 | |
| 3 | 上胶、显影、去胶、擦拭、危废库废气经二级活性炭+2#排气筒排放 | 《半导体行业污染物排放标准》(DB3/3747-2020) | 上胶、显影、去胶、擦拭、危废库废气经二级活性炭+2#排气筒排放 | 达标排放 |
| 1 | 厂房隔声、减震措施 | 《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB12348-2008)中 3 类标准 | 厂房隔声、减震措施 | 达标排放 |
| 1 | 一般固废仓库 15m2,危废仓库 15m2 | 一般固废仓库 15m2,危废仓库 15m2 |
| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 1 | 未按环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施,或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书(表)经批准后,该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动,建设单位未重新报批环境影响报告书(表)或环境影响报告书(表)未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成,或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目,无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目,其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚,被责令改正,尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实,内容存在重大缺项、遗漏,或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |