原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目意向公开

发布时间: 2026年07月27日
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原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目意向公开

发布时间: 2026-07-27

原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目
意向公开

采购单位:

某单位

项目名称:

原位量子物态磁学调控单元(脉冲激光沉积单元)采购项目

预算金额(万元):

320

采购品目:

真空获得设备(A****2401)

采购需求概况:

拟购设备原位量子物态磁学调控单元的重要组成部分。脉冲激光沉积(PLD)是一种高性能的薄膜材料生长设备,其原理是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光聚**用于靶材表面,靶材的表面产生高温、高压等离子体,并作定向化运动到衬底基片,当它与加热到一定生长温度的衬底基片相接触时沉积形成薄膜。主要用于各种多元化合物薄膜的沉积,包括金属、氧化物等高质量薄膜,在生长超导、铁磁、铁电等氧化物薄膜方面具有独特优势,并可通过对掺杂、氧缺陷、晶面取向、晶格应力、表面修饰的控制,实现对材料物性的精准调控。

联系人:

王老师

联系电话:

0755-****2181

预计采购时间:

2026年9月

备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

2026年7月27日


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