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光罩 DRAM 4倍 30nm Critical layer 6%PSM WL193nm CDMTT4.0nm 3Sigma4.0nm Layer60

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发布时间： 2026年07月29日

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光罩 DRAM 4倍 30nm Critical layer 6%PSM WL:193nm CDMTT:4.0nm 3Sigma:4.0nm Layer:60

材料类别:

化学材料>专业原料>光罩

招标进度跟踪

2026-07-29

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光罩 DRAM 4倍 30nm Critical layer 6%PSM WL193nm CDMTT4.0nm 3Sigma4.0nm Layer60

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