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超高真空磁控溅射系统
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***********公司企业信息
****2026年8至9月政府采购意向-超高真空磁控溅射系统 详细情况
| 超高真空磁控溅射系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年8至9月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 超高真空磁控溅射系统 |
| 预算金额： | 125.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2600磁场测量仪器
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| 采购需求概况 ： |
超高真空磁控溅射系统一套，主要用于制备金属和氧化物功能薄膜；铁电/磁性异质结、二维材料异质结薄膜 配置要求：4个2英寸Lesker靶枪（2 强磁+2 标准磁控靶）；1 进口 RF/2 进口 DC电源（DC≤500W，RF≤300W）；700L/s进口普发分子泵+1 进口涡旋干泵真空形成系统，溅射腔室极限真空低于6×l07Pa；配备独立预进样腔loadlock系统三路工艺气体（Ar/N2/O2）质量流量控制；1英寸加热旋转样品台，转速可调节；样品台加热温度RT~900°C，控温精度±I°C；工艺压力调节系统；循环冷却水系统；全自动工艺控制软件
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| 预计采购时间： | 2026-09 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-08-01
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