开启全网商机
登录/注册
发布时间:2026-08-07 12:36:57
| 三源等离子体增强原子层沉积系统 | 项目编号**** | |
| 2026-08-07 12:36:57 | 公告截止日期2026-08-11 12:00:01 | |
| **** | 付款方式货到安装、调试、验收合格后,付全款。 | |
| 发布竞价结果后7天内签订合同 | 到货时间要求发布竞价结果后60天内送达 | |
| 币种 | 人民币 | |
| **省**市**区**** | ||
| 无 | ||
| 三源等离子体增强原子层沉积系统 | 1.00 | 无 |
| 不限 |
| 不限 |
| 一、采购内容包含:原子层沉积系统MNT-S200-L3(1台) 二、技术要求 1 配置及组成 原子层沉积设备至少包含以下配置 1) 1套热型原子层沉积系统主机 2) 1套8英寸反应腔 3) 1套常温液源输送系统 4) 2套加热源管路 5) 1套真空系统 6) 1套备品备件 2 设备主机规格 1) 适用于8英寸以及小尺寸样品薄膜沉积; 2) 设备本底真空优于3 Pa,设备漏率≤ 5×10-10 Pa﹒m3/s; 3) 控制方式:PLC+触摸; 4) 多种沉积模式:快速模式、充分暴露模式和多元掺杂模式; 3 反应腔系统 1) 反应腔材质为316L不锈钢,底座整块材料加工,腔体表面抛光后电解; 2) 密封方式:采用燕尾槽密封并配备耐腐蚀密封圈; 3) 样品台尺寸:标准8英寸腔体,直径为200 mm; 4) 样品台加热温度最高可达400℃,采用PID控制方式,控制精度为±1℃; 5) 反应腔配备自动充气及过压保护功能; 4 前驱体源输送系统 1) 常温源1路,加热液源2路; 2) 前驱体输送管路加热温度范围RT-250℃,控制精度±1℃; 3) 常温源:配备ALD专用阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL); 4) 加热源:配备ALD专用阀门、源手动阀、不锈钢源瓶(50 mL),源瓶温度范围RT-200℃; 5) 管路及接头均采用316 EP级电解抛光不锈钢材料,所有气体管路连接处采用金属VCR密封;载气管路采用N2或者Ar气体,通过MFC控制;配备惰性气体自清洗系统,在控制界面中可以设置自动清洗的次数。 5 真空系统: 1) 真空泵抽速不低于20 m3/h; 2) 真空测量:配备进口压力传感器,检测范围:5*10-4-1000 mbar; 3) 真空抽气管道可以烘烤至150℃,且真空泵前级配置热阱,温度范围RT-300℃,控制精度±1℃; 3) 样品台尺寸:标准8英寸腔体,直径为200 mm; 4) 样品台加热温度最高可达400℃,采用PID控制方式,控制精度为±1℃; 5) 反应腔配备自动充气及过压保护功能; 6 控制系统 1) 采用高稳定性的PLC+工业触摸屏方式;触摸屏尺寸不小于15.6 英寸; 2) PLC采用工业以太网控制方式,支持灵活扩展DeviceNet、CANopen、PROFIBUS DP 等通信方式; 3) 系统可实现配方编辑、保存、读取等功能;ALD阀门及管路具备自动排空和清洗功能; 4) 系统设有高级界面,可进行温度PID参数自整定、前驱体标签修改等; 5) 系统可实时监测动力气体压力值、系统压力值、加热状态、阀门开关状态和镀膜进度,当发生异常时触发报警并做出响应,报警日志可进行回看; 7 验收指标: 厂家须提供氧化铝薄膜的标准工艺配方,前驱体为三甲基铝+水,按以下内容进行现场制备与验收: 薄膜均匀性:在8英寸晶圆上沉积 300cycle氧化铝,以晶圆上5个均匀分散点(上、下、左、右、中心5点,边缘5 mm除外)进行椭偏仪测试膜厚,8英寸晶圆上薄膜不均匀性≤2%。 8 其他伴随服务 1) 提供备品备件一套、操作说明书1套。 2) 质保期1年,软件终身免费升级; 3) 设备生产过程符合 ISO9001 质量管理体系认证要求。 |
| 交付、质保及售后 (一)交货期:2个月 交付地点:买方指定地点 (二)安装调试与技术培训 供货商负责仪器设备的安装、调试及完成后的现场培训,须提供完整的设备操作、保养说明书、系统操作手册,安排专业人员完**装调试、技术支持,为买方单位提供设备的正常使用、维护保养、故障分析排除、操作安全及紧急处理程序等现场培训,确保买方相关人员熟练掌握设备安全操作和正确使用的技能。 (三)质保及售后 1. 质保期1年。 2. 提供系统发生故障后24小时内给予答复,紧急问题在48小时内到达现场给予售后服务。 3. 保修期结束后,实行终身维修服务,软件终身升级。 4. 技术服务工程师为用户提供技术支持。用户可以通过各种联络工具,****公司的各种咨询。 |