近日,******公司公布又一批次设备采购招标结果,覆盖第22、24、25、26批多类面板核心工艺设备,框胶涂布、液晶滴下、彩膜曝光、显影清洗、剥离浓度控制等关键工序设备相继完成开标、评标及结果公示,招标代理机构均为******公司,项目落****基地,设备采购聚焦面板产线工艺段升级与产能配套建设。
第24批设备项目招标范围为框胶涂布机和液晶滴下机,确定MUSASHI ENGINEERING为本标段中标方,设备制造商同为该日本企业。框胶涂布与液晶滴下是LCD液晶成盒环节核心工艺设备,直接影响面板盒厚均匀性与液晶灌注品质。
| 批次 | 招标范围 | 中标/候选人 | 国别 |
| 第22批 | 彩膜显影机、彩膜涂布前清洗机 | ******公司 | 中国 |
| 第24批 | 框胶涂布机、液晶滴下机 | MUSASHI ENGINEERING | 日本 |
| 第25批 | 剥离浓度控制系统、浓度控制系统 | ANAC CORPORATION | 日本 |
| 第26批 | 彩膜曝光机 | V Technology Co., Ltd. | 日本 |
第25批、第26批设备于8月6日完成开标并同步对外发布评标公示。其中第25批采购剥离浓度控制系统和浓度控制系统,中标候选人为ANAC CORPORATION,设备由该日本厂商制造,该类设备主要用于湿法制程药液浓度实时监测与闭环控制,保障蚀刻、剥离工序工艺稳定性。第26批标的为彩膜曝光机,中标候选主体为V Technology Co., Ltd.,设备源自日本原厂,彩膜曝光机是CF彩膜段图形化的核心装备,设备性能直接决定彩膜基板像素精度与色彩表现能力。
第22批设备项目针对彩膜显影机、彩膜涂布前清洗机开展采购,******公司成为本标段中标候选人,设备实现国内自主制造。彩膜清洗、显影属于湿法工艺关键环节,国产设备入围头部面板厂核心产线招标候选名单,体现国内湿法装备在面板领域的国产化替代进程持续推进。
以上候选及中标结果可以看出,面板关键工艺设备市场仍呈现国内外厂商竞争并存格局。曝光、药液浓度控制、液晶滴下框胶涂布等高端工艺设备,海外日系厂商仍占据较强竞争优势;而清洗、显影等湿法设备赛道,国内本土装备企业已经具备参与头部产线项目的综合实力。