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| 穆勒椭偏仪 | 1.0/台 | 颐光科技 | ME-L-L | [{"key":"1","value":"1.光谱范围:190-1000nm 2.光谱测量间隔:<0.8nm @UV-VIS 3.单点测量时间:<15s(用户可设置) 4.光斑尺寸:大光斑1-4mm,微光斑200μm 5.可视化调平系统:支持样件台可视化辅助对准调平 6.调制技术:消色差双旋PCr1SCr2A调制技术 7.入射角范围:45-90°,自动变角 8.找焦功能:≥35mm,自动找焦 9.样品台:支持X/Y/Z,俯仰+旋转五维可调,满足尺寸φ200mm样件真空负压吸附固定测量 10.自动旋台:0-360°自动旋转调节 11.膜厚重复精度:优于0.005nm(100nm SiO2/Si,30 repeats,1σ) 12.折射率重复精度:优于0.0002(****@632.8nm,100nm SiO2/Si,30 repeats,1σ) 13.偏振精度:穆勒矩阵Mueller Matrix对角元素m=1±0.005,非对角元素m=0±0.005(测量空气全波段90%满足) 14.退偏指数:优于±0.5%(测量裸硅,全波段90%满足) 15.分析软件:数百种的光学材料常数数据库,并支持用户自定义光学材","important":true}] | 按行业标准提供服务 | ||
| 穆勒椭偏仪 | 1.0/台 | 泰仪瑞科技 | PCE-2r | [{"key":"1","value":"1.光谱范围:190-1000nm 2.光谱测量间隔:<0.8nm @UV-VIS 3.单点测量时间:<15s(用户可设置) 4.光斑尺寸:大光斑1-4mm,微光斑200μm 5.可视化调平系统:支持样件台可视化辅助对准调平 6.调制技术:消色差双旋PCr1SCr2A调制技术 7.入射角范围:45-90°,自动变角 8.找焦功能:≥35mm,自动找焦 9.样品台:支持X/Y/Z,俯仰+旋转五维可调,满足尺寸φ200mm样件真空负压吸附固定测量 10.自动旋台:0-360°自动旋转调节 11.膜厚重复精度:优于0.005nm(100nm SiO2/Si,30 repeats,1σ) 12.折射率重复精度:优于0.0002(****@632.8nm,100nm SiO2/Si,30 repeats,1σ) 13.偏振精度:穆勒矩阵Mueller Matrix对角元素m=1±0.005,非对角元素m=0±0.005(测量空气全波段90%满足) 14.退偏指数:优于±0.5%(测量裸硅,全波段90%满足) 15.分析软件:数百种的光学材料常数数据库,并支持用户自定义光学材","important":true}] | 按行业标准提供服务 | ||
| 穆勒椭偏仪 | 1.0/台 | 诺瓦科技 | FT5500 | [{"key":"1","value":"1.光谱范围:190-1000nm 2.光谱测量间隔:<0.8nm @UV-VIS 3.单点测量时间:<15s(用户可设置) 4.光斑尺寸:大光斑1-4mm,微光斑200μm 5.可视化调平系统:支持样件台可视化辅助对准调平 6.调制技术:消色差双旋PCr1SCr2A调制技术 7.入射角范围:45-90°,自动变角 8.找焦功能:≥35mm,自动找焦 9.样品台:支持X/Y/Z,俯仰+旋转五维可调,满足尺寸φ200mm样件真空负压吸附固定测量 10.自动旋台:0-360°自动旋转调节 11.膜厚重复精度:优于0.005nm(100nm SiO2/Si,30 repeats,1σ) 12.折射率重复精度:优于0.0002(****@632.8nm,100nm SiO2/Si,30 repeats,1σ) 13.偏振精度:穆勒矩阵Mueller Matrix对角元素m=1±0.005,非对角元素m=0±0.005(测量空气全波段90%满足) 14.退偏指数:优于±0.5%(测量裸硅,全波段90%满足) 15.分析软件:数百种的光学材料常数数据库,并支持用户自定义光学材","important":true}] | 按行业标准提供服务 |