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立式原位掺杂低压化学气相淀积设备
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zycgr220****22026年10至12月政府采购意向-立式原位掺杂低压化学气相淀积设备 详细情况
| 立式原位掺杂低压化学气相淀积设备 | |
| 项目所在采购意向： | zycgr220****22026年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | zycgr****1902 |
| 采购项目名称： | 立式原位掺杂低压化学气相淀积设备 |
| 预算金额： | 320.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
本次采购立式原位掺杂低压化学气相淀积设备1套，是低压条件下通过气相化学反应在碳化硅表面沉积掺**晶硅的设备，在薄膜生长过程中沉积与掺杂同步完成。要求多晶工艺过程中进行磷掺杂，膜厚范围覆盖50 nm-1200 nm，片内、片间、批间均匀性膜厚均匀性＜3%。
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| 预计采购时间： | 2026-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-08-27
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