原子层沉积系统配件

发布时间: 2026年09月08日
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采购单位名称
采购项目名称 原子层沉积系统配件
成交供应商 ****
成 交 价(元) 260000
采购清单
序号 物资名称 规格型号 单价(元) 数量 技术参数
1 原子层沉积真空系统配件 ALD-V401-PRO 260000 1 本配套组件为定制集成式原子层沉积仪器的辅助构成部分,与ALD主器件配套使用,共同形成完整、可独立运行的ALD实验装置。组件由以下子系统构成:1. 真空获得系统:由机械泵组及真空测量单元组成,提供ALD工艺所需的高真空环境。机械泵抽速满足系统主腔体抽空要求,极限真空度优于6×102 Pa;配备隔膜真空计及全量程复合真空规,实现从大气压至10 Pa宽量程范围内的实时真空度监测与反馈。2. 前驱体输运系统:集成气动隔膜阀组、高温源瓶(最高工作温度400℃)及低温源瓶(最低工作温度-196℃),配合臭氧发生器提供氧化剂源。系统支持多种前驱体及氧化剂的脉冲顺序切换,最小脉冲时间可达毫秒级,满足各类ALD工艺对前驱体精确输运的要求。3. 反应加热系统:采用高精度管式炉,最高工作温度1200℃,恒温区控温精度±1℃。炉膛可容纳Φ25~Φ50 mm炉管,满足不同尺寸样品台的装载需求,为ALD反应提供稳定、均匀的热场环境。4. 自动控制系统:以工业级工控机为核心,搭载ALD专用控制软件,实现气动阀门时序编程、源瓶温度设定、工艺参数实时监控与数据记录等功能;支持多组工艺配方存储与调用,确保实验过程的可编程性、可重复性与自动化运行。5. 尾气处理系统:采用多级鼓泡吸收瓶结构,对ALD工艺过程中产生的酸碱尾气及有机废气进行有效中和与吸附处理,吸收效率≥95%,保障实验环境安全。系统整体性能:上述组件与ALD主器件集成后,系统工作真空度可稳定控制在1~10 Pa区间,整体漏率≤1×10 Pa﹒m3/s,衬底加热温度覆盖RT~1100℃,沉积均匀性优于95%(Φ50 mm范围内)。
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2026-09-08
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