氩离子抛光仪

氩离子抛光仪是通过高能且通过磁场聚焦的定向氩离子束对样品表面进行轰击，去除机械制样带来的应力应变层，获得平整无损真实的样品表面结构供扫描电镜观察，适用于各种金属和复合材料，同时具备横截面切割**面抛光功能。设备主要技术参数:1 功能：同时具备横截面切割**面大面积抛光功能；2离子源：独立可调节的全电磁线圈聚焦氩离子源，无永磁体，离子枪无任何耗材；3加速电压范围：0.1- 10 keV，步进0.1keV，满足高电压快速抛光，低电压精细修复；4 束斑尺寸：300μm到5mm，可连续调节；5 离子束束流密度：≥ 10 mA/cm2, 可选择单个或者两个离子源工作，每个离子源都有独立法拉第杯直接检测电子束流值;6具备磁性编码器提供绝对定位精度，具备厚度测量功能，实现不同厚度样品自动匹配最佳抛光位置；7 真空系统：两级真空系统：无油干泵和不低于80L/s涡轮分子泵；8 用户界面：触摸屏内嵌式用户界面，具备配方式自动加工功能，同时具备黑匣子事件记录器，可记录仪器故障信息，为设备后续维修提供精准判断依据；9 样品台：能够水平360度连续旋转，同时可进行摇摆，减小离子束抛光时带来的窗帘效应；10 抛光速率：≥500μm/Hr（Si@10keV）11 预换样舱和离子束加工舱设计，换样时间小于1min；12 配备不少于2个横截面切割样品台和2个平抛抛光样品台，实现高通量制样；13 样品尺寸：横截面≥25X12X7mm，平面直径32mmX25mm；14. 配备专用配套显微镜，能够实时观察抛光过程。