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| 桌面型掩膜对准紫外光刻机 | 1.0/台 | 中芯热成 | XT-01-UV litho-手动 版 | 1、 曝光类型:单面; 2、 曝光面积:110×110mm; 3、 曝光照度不均匀性:≤±5%; 4、 紫外光束角:≤5° 5、 ****中心波长:365nm; 6、 紫外光源时间:≥8 万小时; 7、 采用电子快门; 8、 曝光分辨率:2μm; 9、 显微镜扫描范围:X:±50mm,Y:±50mm; 10、 对准范围:X、Y 调节±6.5mm,Z向移动范围10mm,Q 向 360°粗调,±5°精调; 11、 套刻精度:2μm 12、 光刻胶:正性光刻胶 12、 曝光方式:接触式曝光; 13、 显微系统:单目 CCD 显微系统,2000 倍金相同轴光显微镜;光学放大倍数 0.7X-4.5X;高清 2K 工业 CCD 相机;LED 同轴光源;13.3 寸挂屏; 14、 掩模版尺寸:≤127×127mm; 15、 基片尺寸:≤Φ102mm; 16、 基片厚度:≤5mm; 17、 曝光定时:0~999.9 秒(可调); 18、外形尺寸:603mm×535mm×723mm(高度不含支脚) 19、 电源:单相 AC220V 50HZ; 20、 设备所需能源:220V±10%,50HZ; | 质保1年 |