真空镀膜试验平台采购项目(第二次招标)[澄清公告]

发布时间：2026-09-21

原公告的采购项目编号（或招标编号、采购计划备案文号等，如有）：****

原公告的采购项目名称：真空镀膜试验平台采购项目(第二次招标)

首次公告日期：2026年09月07日到2026年09月15日

更正事项：□采购公告 √采购文件标书代写

更正内容：1、招标文件第五章供货要求“四技术要求（一）整体要求（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）*外形尺寸（不得超过）：深1000mm,宽1700mm，高2500mm。”变更为“四技术要求（一）整体要求（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）*外形尺寸（不得超过）：深2000mm，宽2000mm，高2500mm”；
2、招标文件第五章供货要求“四技术要求（三）溅射源系统配置：（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）基础配置：同时配置以下三套溅射源及其对应电源：*① 1支平面靶，电源：10kw的磁控溅射HIPIMS电源，峰值功率可达兆瓦级、不低于2kV高压宽脉冲、消除液滴的抑弧技术、兼容直流模式；”

变更为“四技术要求（三）溅射源系统配置：（须提供整体结构的原理说明并加盖公章）基础配置：同时配置以下三套溅射源及其对应电源：*① 1支平面靶，电源基本指标要求：
参数 规格
峰值功率： 最高 4 兆瓦（MW）
核心技术： HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射）
工作模式： HiPIMS 模式 + 直流（DC）模式
等离子体特性： **度、高离子化率等离子体
电弧管理： CompensateLine（CLC）全数字化电弧管理
冷却方式： 全水冷设计，适用于洁净室环境
设备形态： 紧凑型单元，无需外部直流电源”

更正日期：2026年9月21日

无

名 称：****

地 址：**市**区**科学**核路5号

联系方式：010-****5591

名 称：****

地 址：**市**区**路8****中心A区701

联系方式：133****8537