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| ******经开区年产200吨半导体级高纯氧化钇材料项目 |
| **市-**区 |
| **省赣****开发区深赣共建产业园C区4#标准厂房1层东侧 |
| 1000万元 |
| 租赁经开区深赣产业园C区标准厂房4#一层东侧约2500平方米,租期为2026年9月至2031年9月,分别购置纯水设备、研磨机、造粒塔、烧结炉等设备共10余台,采用“湿法造粒+高温烧结”工艺,将高纯氧化钇原粉(纯度≥99.999%)加工成球形度高、流动性好的喷涂造粒粉。项目达产后,形成年产200吨高纯氧化钇粉体的生产能力,实现年收入8000万元,纳税200万元.项目不涉及燃煤,年电力消耗量小于500万千瓦时。 |
| 2026年10月 |
| 2027年01月 |
| 备案类 |
| 未备案 |