真空表面处理装置 (XJD2026092300030) 采购公告

发布时间: 2026年09月24日
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真空表面处理装置 (****) 采购公告

发布时间:2026-09-24 09:59:20

项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 币种 收货地址 现场踏勘 供应商资质要求
真空表面处理装置****
2026-09-24 09:59:202026-09-27 12:00:00
****货到安装、调试、验收合格后,付全款。
发布竞价结果后7天内签订合同发布竞价结果后30天内送达
人民币
**省**市**区****
无
采购清单 1
采购商品 采购数量 计量单位 附件
真空表面处理装置 1.00 无
品牌 型号 预算单价 规格参数 售后服务
不限
不限
技术要求: 1.采用SUS304不锈钢制造,尺寸≥400mm(宽)x 400mm(深)x 450mm(高),带圆形观察窗≥1个(提供设计图或实物图佐证),真空腔室内部镜面+电解抛光,半导体级清洗,前开门结构(提供腔室真空状态下腔内分析检验数据佐证); 2.极限真空优于5.O×10-5Pa(从大气抽到8x10-4Pa<25min); (提供彩页或数据证明图佐证); 3.内部逻辑:3.3V/5V 逻辑兼容,跳线选择触发电平;5V 单通道:2μs±1μs;3V 单通道:2μs±1μs 4.外部电平:3.3V 12V 宽范围,开漏输出架构 5.配备阴极靶枪≥4个,共焦溅射,靶枪倾斜角度可调直流溅射电源≥1台,射频RF电源≥2台,频率13.56MHz; 6.响应速度:微秒级开关动作;通道间同步时延:<20ns 7.控制接口:RS485 总线,PC 上位机远程指令控制输出通断 8.最大可实现4英寸衬底沉积工作,兼容4英寸以下尺寸进行沉积工作,满足衬底等离子体前处理需求,衬底最高加热温度需达800°C以上(控温精度<5°C);(提供彩页或数据证明图佐证); 9.衬底转速至少在1-30rpm范围内连续可调;转速及距离电动连续可调,可实现对样品的原位处理,去除有机残留物质,改善样品的致密性。 10.分子泵≥1台,抽速:抽速>1000 L/S,Ar压缩比>1×108;前级干泵≥1台,抽速>30m3/h;在分子泵前段配备阻隔组件,可做吸附处理,减少材料对泵污染,可满足不停泵破真空开腔室门 11.采用PLC+工控机控制系统,可实现自动一键式抽真空,可实现多端口操控功能。可匹配不同权限;具备自动工艺设置功能,要求具备报警信息、参数设置、 工艺设置、镀膜控制、真空控制相关功能模块;设备工作时蜂鸣器有无报警及报警信息区有无报警信息,正常无报警时蜂鸣器不会响。如报警发生时应停止工作,排除故障后使用设备;(提供控制功能界面截图佐证) 12.可视化功能:传感器测量精度:±1.1℃,or±0.4%,测温范围:常温-900℃(高温可定制),能实现实时可视化观测样品变化过程,并自动生产相关报告 13.软件需具备编辑和改动Recipe功能,需具备Event Data log存储备份功能。
商务要求: 1. 交货时间:合同生效后30天 交付地点:******校区西五楼 2. 质保期:验收合格后1年 售后服务:货物供货应涵盖产品及配套包装、物流运输、现场安装调试、货物验收、专业用户培训,同时包含售后故障应急响应服务等,产品的制造和检测应均符合国家标准。限本地**供应商,2小时上门服务。原厂工程师培训,需提供原厂授权书。 3. 付款方式:货到验收合格付全款。
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