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| 项目 | 东坑半导体产业园主体工程 |
| 项目类型 | 城市建设类 |
| 建设单位 | **** |
| 编制单位 | **市**建工****公司 |
| 监测单位 | / |
| 地理位置 | **省-**市-**区 |
| 说明 | 东坑半导体产业园项目位于**市**区**街道**大道与凤归路交汇处西南侧,项目西北侧为**大道,东北侧为凤归路,南侧为东坑水河道。项目为**性质。建设内容及规模:包括**生产厂房,仓库,配套,气站及废水站等。本项目**总建筑面积 167992.00m2,其中计容积率建筑面积 144135m2,包括厂房140925.00m2、仓库 750.00m2,产业配套 1450.00m2,公共配套 550.00m2,其他配套辅助设施 460.00m2;地上核增建筑面积 2350.00m2 ,包括厂房2350.00m2;地下建筑面积 20462.00m2,包括地下车库 20462.00m2。根据《开发建设项目水土保持设施验收管理办法》(水利部令第 16 号公布、第 24 号修订)的规定,**市****公司组织开展东坑半导体产业园水土保持设施验收工作。验收组听取了建设单位对工程建设情况的介绍,以及项目施工过程中采取的具有水土保持功能措施实施情况的汇报,验收组审阅了工程档案资料,深入工程现场勘察、抽查了水土保持设施及关键部分工程。同意该项目水土保持设施通过验收。现将本项目水土保持设施验收情况及相关资料予以公开(详见附件),公示时间2026年9月23日-2026年9月27日,材料公示期间,欢迎社会各界人士监督建议。 |
| 附件 |