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| 1 | 闪烁体阵列与光导光学耦合工艺研究及样件制备 | 不限 | 完成中子闪烁体阵列与玻璃光导的光学耦合工艺研究、替代样片验证、正式样件制备及返修工艺验证;中子闪烁体按5×10阵列中心对称排布;单片位置偏差≤0.2 mm;界面层总厚度≤0.2 mm;界面不得存在影响使用的明显气泡、异物、尘埃、脱层、开胶、白雾或局部悬空;样件无明显裂纹、崩边、黄变、溢料、鼓包或翘曲;交付正式光学耦合样件、工艺说明文件及相关检测/验证记录。 | 项 | 1 | 合同生效后30日内完成 | ****中子源路1号,中****实验室 | 具体技术指标及验收方式详见附件《技术指标及验收规范》 |
| 附件:技术指标及验收规范.docx | 技术文件 | 下载 |