Thermal ALD设备(ZBZXJJ20260280)采购公告

发布时间: 2026年09月28日
摘要信息
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招标详情
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相关单位:
***********公司企业信息
项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 联系人 联系电话 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 发票要求 含税要求 送货要求 安装要求 收货地址 供应商资质要求 公告说明
Thermal ALD设备****
2026-09-28 14:55:592026-10-01 15:00:00
****进口设备: 甲方与****公司签订代理进口委托协议后,将进口项****公司****银行账户,项目货款仅用于本进口项目的信用证或TT付汇及进口相关费用等。****公司收到甲方合同货款后,按外贸合同要求及时履行与乙****公司的付款义务。 国产设备:甲方应在完成验收并建立固定资产后向乙方一次性支付本合同的总款项,乙方须向甲方出具合法有效完整的完税发票及凭证资料进行支付结算。
合同签订后120个日历日内
¥398000.00
一环**一段24号******校区先进材料大楼

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件


采购清单1
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
Thermal ALD设备 1 台 其他试验仪器及装置
品牌 型号 预算单价 技术参数及配置要求 参考链接 售后服务
YUNMAO
TEM-150C 手套箱
¥ 398000.00
★1.设备主机尺寸(L x W x H)不大于:700mm x 600mm x 600mm(不含手套箱尺寸) 2.前驱体源系统:4路 50ml 单管式前驱体源瓶接口,一条清扫气线。4个 50ml 单管式前驱体源瓶,含阀门。不少于3套 180oC 单管式 50ml 前驱体源瓶加热器,加热精度:180±1 oC; ★3.样品装载:进样室采用抽屉式样品装载,可装载6英寸标准晶圆; 4.工艺标准:氧化铝均匀性≤1% 薄膜厚度:30nm 取点标准:去边5MM 测试25点 计算公式:= STDEVP(25点)/AVERAGE(25点) 前驱体:TMA+H2O 工艺温度:200℃ 氧化锌均匀性≤3% 薄膜厚度:30nm 取点标准:去边5MM 测试25点 计算公式:= STDEVP(25点)/AVERAGE(25点) 前驱体:DEZn + H2O 工艺温度:200℃;氧化锡均匀性≤3% 薄膜厚度:30nm 取点标准:去边5MM 测试25点 计算公式:= STDEVP(25点)/AVERAGE(25点) 前驱体:TDMASn + H2O 工艺温度:100℃; 5.腔体:铝合金真空腔体,漏率≤1E-9 Pa﹒L/S,200oC高温铝腔,温度控制精度 200 ±1 oC; 6.设备极限真空度≤50mTorr; ★7.MFC:1 个气体质量流量计,精确的载气流量控制,最大量程不低于500sccm; 8.设备包括多组毫秒级 ALD 阀门,ALD 阀组采用紧凑式面板安装,氧化源管路设计采用双ALD阀门设计,可实现定量进源; ▲9.真空规:薄膜真空规,实时显示工艺压力,标准10torr电容薄膜规; 11.真空泵:防腐油泵,抽速大于等于30m3/h,配备ALD泵前级过滤,保护真空泵。反应腔抽真空时间≤10s; 12.软件功能:配备工业级平板显示≥10.1寸,支持触屏及鼠标键盘操作;工艺参数可编辑,工艺菜单,工艺过程,报警和设备运行的实时日志数据,可下载的CSV格式,500GB存储大小,USB兼容。
服务年限:12月;电话支持:7x24小时;质保期:一年;

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