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为便****政府采购信息, 根据《****政府采购意向公开工作的通知》 (财库〔2020〕10号)等有关规定,****学院、****实验室无掩模光刻机采购项目等1项政府采购意向公开如下:
| 序号 | 意向编号 | 采购项目名称 | 采购需求概况 | 预算金额(万元) | 预计采购日期 | 备注 |
| 1 | **** | 物理学院、****实验室无掩模光刻机采购项目 | 、产品功能特点1.无需掩膜版曝光:采用数字直写方式,设计图形修改后可即时曝光; 2.高灵活性图形设计:支持CAD/GDS文件导入及在线编辑; 3.高精度运动与对准系统:支持X/Y/0 精密调节,满足多层对准需求; 4.多波长曝光光源:支持 365nm、405nm等紫外波段; 5.多尺寸基片兼容:支持2-6英寸晶圆、玻璃及柔性衬底; 6.曝光剂量精确控制:支持灰度曝光与能量调节; 7.软件高度集成:支持工艺参数存储、调用与流程化操作; 8.完善的安全防护设计:具备光源防护、互锁与报警机制。 二、关键技术参数 工作波长:405nm 激光最大功率:300mW最小分辨率:0.3m﹒扫描速度:3-150mm2/min 对准精度:正面对准0.1um(1mm区域内),侧面对准1um ﹒最大基片尺寸:8英寸 三、系统总体架构整机采用模块化架构设计,主要包括:1.405 nm激光曝光光源模块2.光束整形与匀光模块3.DMD数字微镜调制模块4.投影成像光学系统5.高精度XY0Z运动与基片承载系统6.正面/侧面对准视觉系统控制软件与曝光算法系统8.安全防护与互锁系统 | 60 | 2026年11月 |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026年09月28日