关于高端显示及半导体关键材料研发生产基地项目(第一阶段)环境影响评价文件审批前的公示

审批
湖南-长沙-望城区
发布时间: 2026年09月29日
项目详情
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关于高端显示及半导体****基地项目(第一阶段)环境影响评价文件审批前的公示
2026-09-17

项目名称

高端显示及半导体****基地项目(第一阶段)

建设地点

**市**区航空路6号

建设单位

****

环境影响

评价机构

********公司

项目概况

****拟在**市**区航空路6号建设高端显示及半导体****基地项目(第一阶段),项目建成后实现年产掩膜版9000片,其中显示用掩膜版900片,半导体用掩膜版8100片。项目用地面积8000m2。

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施

(1)大气环境影响

脱膜产生的硫酸雾、出货清洗产生的硫酸雾及氨气经管道收集经碱液喷淋塔处理后通过30m酸性废气排气筒排放,显影产生的氨气经管道收集经酸液喷淋塔处理后通过30m碱性废气排气筒排放,硫酸雾执行《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)二级标准,氨气、臭气浓度执行《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)中标准值;燃气锅炉废气通过30m锅炉废气排气筒排放,废气执行《锅炉大气污染物排放标准》(GB 13271-2014)中特别排放限值及《**省工业治理领域大气污染防治攻坚实施方案》中从严标准限值要求;废水处理废气经通风后无组织排放,臭气浓度执行《恶臭污染物排放标准》(GB14554-93)中表1恶臭污染物厂界标准值。

(2)水环境影响

项目排水采用雨污分流。生活污水经化粪池处理达到《污水综合排放标准》(GB 8978-1996)表4中三级标准后,排入市政污水管网,****处理厂进行深度处理;超纯水制备浓水、锅炉排污水、冷却废水经市政污水管****处理厂处理;含铬废水经化学混凝沉淀+反渗透膜+浓液MVR蒸发处理,反渗透**及MVR冷凝水与其他工艺废水、喷淋塔废水、地面拖****处理站处理达到《电子工业水污染物排放标准》(GB39731-2020)表1的间接排放标准后排入市政污水管网,****处理厂处理。

(3)声环境影响

通过基础减振及选用低噪声设备等措施,确保营运期项目厂界噪声达到《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB 12348-2008)中3类标准。

(4)固体废物环境影响

生活垃圾交由环卫部门处置;废保护膜、废包装材料等一般工业固体废物交由物资回收单位综合利用;废显影液、废蚀刻液、酸洗废液、碱洗废液、污水处理站含铬污泥、蒸发结晶废盐及残液、废反渗透膜、废危化品包装材料、废润滑油、废润滑油桶、废抹布手套、废紫外线灯管、修补含铬废料等危险废物交由有资质的单位处置。危险废物贮存须符合《危险废物贮存污染控制标准》(GB18597-2023)要求,设置专用暂存间并规范标识,建立台账,严格执行转移联单制度。

公众参与情况

现行法律法规、规范性文件未对环境影响报告表公众参与作强制性规定。

听证权利告知

依据《中华人民**国行政许可法》,自公示之日起5个工作日内,申请人、利害关系人可对拟作出的建设项目环境影响评价审批事项要求听证。

公众反馈意见

的联系方式

联系方式:0731-****6517

通讯地址:**经开区**路1****委会办公楼二楼环委办

**经****委员会办公室

2026年9月17日


温馨提示
1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展,属于前期项目。
2.根据该项目的描述,可依据自身条件进行选择和跟进,避免错过。
3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设,也可继续跟踪,项目可能还有其他相关后续工程与服务。
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