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| 薄膜器件工艺服务 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年10月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 薄膜器件工艺服务 |
| 预算金额: | 180.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
C****0300
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| 采购需求概况 : |
用于纤锌矿铁电材料生长,包含ALD、磁控溅射、快速退火炉、椭偏仪。纤锌矿铁电材料的示范验证必须与晶圆厂**,而目前具备先进制程的晶圆厂主流为12英寸设备,因此必须拉齐前后道的样片尺寸规格。该设备用于12英寸晶圆纤锌矿铁电介质层薄膜沉积。该工艺为存储芯片制备流程关键环节。高质量薄膜沉积:精确调控溅射功率、气压与衬底温度,实现高c轴择优取向与高结晶质量,用于**纤锌矿铁电材料(如AlScN)的外延生长与制备。极速热过程控制:可提供极高升降温速率,有效抑制非铁电杂相形核,用于纤锌矿铁电薄膜的结晶优化、界面接触改善及铁电极化性能提升。椭偏仪能精确测量薄膜厚度与光学常数(折射率n、消光系数k),用于纤锌矿铁电薄膜的厚度监控与光学性质评估,辅助优化溅射与退火工艺参数。
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| 预计采购时间: | 2026-10 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写