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高真空磁控溅射薄膜沉积系统
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***********公司企业信息
****2026年10月政府采购意向-高真空磁控溅射薄膜沉积系统 详细情况
| 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高真空磁控溅射薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 130.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****1100航天专用工艺设备
|
| 采购需求概况 ： |
名称：高真空磁控溅射薄膜沉积系统 数量 ：一台 主要功能或者目标：此设备用于实现弹性体表面实现溅射工艺中的溅射镀膜任务，溅射工艺可将应变敏感单元直接溅射到六维力传感器弹性体的应变梁处，支持微型化设计，大大提高其精度、抗温变能力以及弹性体的小型化能力。为此，利用溅射工艺进行六维力传感器弹性体应变敏感单元的制作对传感器性能提升具有重要意义，完美适配航天、极地等极端环境下的高精度力测量需求，提高科研项目研制产品的精度与可靠性等等。 设备的安全性：应符合行业标准 货期：期望3个月内 质保：1年及以上 售后：12小时内响应
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| 预计采购时间： | 2026-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2026-09-30
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