PVD物理气象沉积真空涂层车间改造企业投资项目备案

审批
福建-厦门-集美区
发布时间: 2026年10月09日
项目详情
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工程代码 **** 中央代码 2408-350211-06-02-773678
项目名称 PVD物理气象沉积真空涂层车间改造
项目(法人)单位 **** 建设性质 其它
建设详细地址 **市**区灌口镇坑坪路5号201单元
主要建设内容及规模 项目位于******644.0平方米, 建设包含车间5条PVD物理气象沉积真空涂层生产线,引进涂层设备,改进PVD物理气象沉积技术,生产规模提高至1000万元。, 这是一种在真空环境中,利用磁场控制的等离子体中的离子轰击靶材,使靶材原子溅射并沉积到基材上形成薄膜的过程。这种技术可以在较低温度下沉积多种材料,适合热敏感材料,涂层均匀、粘附力强,适用于复杂形状的基材,广泛应用于半导体、电子、装饰性涂层等领域。 利用高能电子束在高真空条件下照射靶材,使其迅速加热蒸发,蒸发的原子或分子在基材上凝结形成薄膜。这种技术能够沉积高熔点材料,控制精度高,可实现多元素合金薄膜的精确沉积,适用于光学薄膜、耐高温材料涂层等。 使用高能脉冲激光照射固体靶材,将靶材表面物质蒸发成等离子体,等离子体中的原子、分子、离子等在基材表面凝结形成薄膜。这种技术可以准确控制薄膜的组成和结构,适合制备复杂组成的高性能薄膜,能够在室温下沉积多种材料,包括难以蒸发的高熔点材料,特别适合研究和应用在超导材料、高温超导薄膜、生物兼容薄膜等领域。,不仅提高了薄膜沉积的精度和效率,还拓宽了PVD技术在半导体、电子、光学、装饰性涂层等多个领域的应用。生产规模提高至1000万元。
项目总投资(万元) 1000(其中土建投资:0,其他投资:200,设备及技术投资:800,进口设备、技术用汇: 0)
拟开工时间 2024-07 拟建成时间 2026-12
符合产业政策的申明 我公司已确认,所备案项目不属于《产业结构调整指导目录》或《外商投资产业指导目录》中的限制类或禁止类项目,不属于我市核准目录中应办理核准的项目。特此声明。
补充说明
备案号 厦集科工投备[2026]164号 备案日期 2026-10-09
备案机关 厦****工信局 备案事项 企业投资项目备案
温馨提示
1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展,属于前期项目。
2.根据该项目的描述,可依据自身条件进行选择和跟进,避免错过。
3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设,也可继续跟踪,项目可能还有其他相关后续工程与服务。