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| 1 | BXX曝光检测套刻对准装置 | BXX光刻胶曝光检测装置,一套。用于实现光刻胶的干涉曝光。光学滤波波长:13.5nm;真空度不低于1E-2Pa;掩膜-样品最小工作距离不大于10μm;焦深不大于100nm;样品台xy向定位抖动不高于3nm(rms@1s);样品台xy向定位漂移不高于3nm(1min);样品台最小步进10nm。供货周期:合同签订后12个月,质保2年。 | ****000.00 | 2026-10 |