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| 离子镀辅助沉积系统 | 1.0/台(套) | 中科博研(本地化售后服务) | IAMS-150 | 工件加热组件:管状加热器及多层屏蔽结构,工件加热温度不低于150 °C 2 旋转悬浮工件架组件:由步进减速电机驱动磁流体装置,转速0~15rpm,连续可调 3 气动挡板组件:由旋转气缸驱动磁流体装置组成 4 摄像头组件:摄像头组件设置在真空室上方,可实时观察离子枪工作状况 5 石英晶体膜厚测量仪:厚度范围:0-99 μ 9999A 6 工艺气体控制组件:独立工艺气体控制柜,由质量流量计、连接支板、气动隔膜阀和1/4”VCR接口管路、密封连接件、混气管体、氩气管体及管路接头组成 7 真空室布气组件:匀气布气焊接管路、卡套式连接结构 | 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务) |