开启全网商机
登录/注册
| HCD450沉积系统 | 1.0/台(套) | **捷造(本地化售后服务) | HCD450-600 | 极限压力: ≤8×10-5Pa 2 工作压力: 0.2 Pa~0.8Pa 3 真空室升压率: ≤0.8Pa/h 4 工件尺寸: ≤156×156(mm) 5 薄膜均匀性: 直径Φ100mm范围内薄膜均匀性≤±5%;直径Φ200mm范围内薄膜均匀性≤±10% 6 真空室模块: 6.1水冷不锈钢真空室,内腔体约450x510x600mm(WxLxH)(mm),真空腔室前端设置有前滑开门组件,主要由线性导轨装置,侧滑门,滑板,锁紧气缸机构和导向支撑机构等组成。并具有与标准手套箱相匹配的连接法兰,可根据需要配置相应的手套箱。真空腔室后端,通过铰链机构连接有后开门组件,后开门上设置有一套观察窗装置及手动挡板机构。 6.2真空室预留多组刀口法兰等连接附件 6.3真空室内部四周、上部分别设置有多组镜面不锈钢屏蔽板及连接附件 7 真空系统: 7.1高真空分子泵系统,配置有CF200F分子泵,CF200高真空气动插板阀,由进口旋转气缸驱动的磁流体密封的CF200气动光栏阀,进口KF40、KF16气动角阀,高真空电磁压差阀,真空管道及波纹管组件 7.2真空测量及破空系统包含:全量程冷阴极规(1)、皮拉尼复合低真空计(1)、充气阀(1)及连接件 8 机架及主机辅助动力: 机架为框架式结构,由铝型材加工组装而成。机架下方连接有可调节的支撑脚轮,便于设备的整体移动及到位支撑;冷却水系统固定在机架上。 | 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务) |