开启全网商机
登录/注册
| 光刻机 | 1.0/台 | 160000.0 | **兴林真空 | C-25XA | 1.四种版夹盘,能真空吸附5" ×5"或4" ×4"或3" ×3"方形掩板。对版的厚度无特殊要求(1~4mm皆可)。 2.设有相对应的真空吸附基片的“承片台”三个,分别适用于φ2、φ3、φ4片。对于非标准片或碎片,只要堵塞相应的小孔,同样能真空吸附。 3.照明:光源:采用GCQ350Z型超高压水银直流汞灯。照明范围:≤ф100mm不均匀性:ф100mm内±4%可使用的波长:g线、h线、I线的组合。根据用户要求,可增加I线滤光片。成象面照明:光照度0~10毫瓦/厘米2,任意可调(出厂时,照明度调在10mw/cm2)。 曝光分辨率:1μm 4.继电器:可从0.1秒∽999.9秒预设,控制气动快门,动作准确可靠。 *5.曝光模式:硬接触曝光:用管道真空来获得高真空接触。真空≤-0.05MPa。软接触曝光:接触压力可将真空降到-0.02MPa ~ -0.05MPa之间。微力接触曝光:小于软接触。真空≥-0.02MPa。 *6. 分辩率:如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定,环境、温度、湿度、尘埃得到严格控制,采用进口正性光刻胶,且匀胶厚度得到严格控制。加之前后工艺先进的话,硬接触曝光的最小分辨度可达1μm。 7.对准:观察系统为两个单筒显微镜上装二个CCD摄像头,通过视屏线连接到显视屏上。a.单筒显微镜为0.7X~4.5X连续变倍显微镜(也可为1.6X~10X)。b.CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3,(6mm);c.采用19"液晶监视器,其数字放大倍率为19÷1/3=57倍;d.观察系统放大倍数为:0.7×57≈40倍(最小倍数),4.5×57≈256倍(最大倍数)或(91倍~570倍)。对准台:(采用片动,版不动方式)X、Y调整:±5mm。 θ调整:转角≤5°对准间隙(分离间隙)0~5mm任意可调。对准精度:1μm,套刻精度: 1μm整个对准台相对于显微镜可作±20mm扫描运动。“接触、分离”20μm情况下,片相对于版的“漂移量”,可调到≤±0.5μm。 *8.芯片检测系统:CRIS无限远光学系统 9.视觉系统:****光刻机双路视觉对准控制软件。支持开始/取消对准、双路视觉合像、左/右图像切换与暂停显示;亮度/对比度/饱和度0-255独立可调;典型对准精度≤±1μm;支持图像保存、路径自定义、实时时钟、及安全退出。 10.设备所需能源:主机电源: | 按行业标准提供服务 |
附件:报价单.pdf
|