化学吸附仪在线气体分析质谱仪紫外激光拉曼光谱仪

A****0404光学式分析仪器,A****2100催化剂检验分析评价装置,A****0407质谱仪

◆ 程序升温高温炉2个，全自动旋转切换； ◆ 控温范围：-160℃~1200℃； ◆ 程序升温速率：1℃/min-100℃/min； ◆ 分析气入口：12路； ◆ 标配3路MFC，支持3路混气化学吸附； ◆ 氧化性气体与还原性气体互锁机制 ◆ 标配真空泵，全自动气路冲洗 ◆ 标配蒸汽发生器； ◆ 标配冷阱； ◆ 脉冲滴定：定量管0.5ml （标配）； ◆ 恒温系统：双重恒温（气路系统40~80℃，TCD系统60~110℃ ）； ◆ TCD检测器双检测模式：可切换“高灵敏”和“宽量程”模式； ◆ 检测系统：TCD+MS； ◆MS标配涡轮分子泵及前级泵； ◆MS配备两套灯丝，软件自动切换 减压装置:不锈钢取样毛细管，最高加热温度 300°C，进样响应时间小于 200ms; 2 真空系统:涡轮分子泵作为主抽泵，配全量程真空计，真空系统由触摸屏显示和控制（提供实物照片）; 3 质谱室:超高真空腔体，最大可烘烤温度为 200°C; 4 质量分析器:四极杆质量分析器，配EI 离子源，配双灯丝，法拉第杯 /电子倍增器双检测器，可检测 1-100amu 气体，检测限：优于100ppb，分辨率:小于 1amu； 5 软件:多通道检测，可实现定性和定量分析; a.光谱分辨率（测试条件：采用≤1800刻线光栅，≥30um狭缝或针孔一次性连续测量紫外-可见-近红外全光谱范围）：≤0.8 cm-1（837nm 氖灯线半高宽）。 b.灵敏度：硅的三阶峰40：1，测试条件：测量Si（111）三阶峰，采用532nm激发，积分时间≤100s，重复≤3次。 c.配备325 和532 cm-1激光器，所有激光器全自动切换； d.光谱数据采集模式：包括单窗口信号采集（同时谱），多窗口连续信号采集（宽光谱快速无缝接谱），多窗口断续信号采集（高低阈值一次采集）和连续扫描信号采集（大范围平滑光谱）； e.开放式显微镜，物镜镜头上下调节聚焦