开启全网商机
登录/注册
| 项目名称 | 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 项目编号 | **** |
| 项目编号 | **** | ||
| 公告发布日期 | 2026/10/21 10:03 | 公告截止日期 | 2026/10/26 10:03 |
| 公告截止日期 | 2026/10/26 10:03 | ||
| 采购单位 | **** | 是否本地化服务 | 否 |
| 是否本地化服务 | 否 | ||
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 联系手机 | 中标后在我参与的项目中查看 | ||
| 采购预算 | ¥250,000.00 | 是否需要踏勘 | 否 |
| 是否需要踏勘 | 否 | ||
| 踏勘联系人 | 踏勘联系电话 | ||
| 踏勘联系电话 | |||
| 踏勘地点 | 踏勘联系时间 | ||
| 踏勘联系时间 | |||
| 送货/施工/服务期限 | 自合同签订之日起10天内完成设备的运输、安装、调试。 | ||
| 送货/施工/服务地址 | ****主校区 | ||
| 售后服务 | (1)自货物技术验收合格之日起,软件系统、硬件提供1年的免费保修服务;质保期内无条件免费维护以及升级;(2)所有设备质保期内提供 8小时上门服务,确保1个小时内响应,要求3小时到达现场,4小时修复故障,若不能修复,需要在 48小时内提供备件到达用户使用现场。(3)免费提供用户培训服务,培训时间及形式灵活,达到用户完全掌握。 | ||
| 付款条款 | 合同生效后发货前预付30%,货到验收合格后支付70% | ||
| 其他说明 | 无 | ||
| 采购内容 | 数量单位 | |||
| 高真空多靶磁控溅射镀膜机 | 1(套) | |||
| 是否进口 | 否 | |||
| 指定品牌及型号 | 承宽/SVD-350 沐东真空/VIS350 | |||
| 技术参数要求 | ★1.真空腔室:φ350×H400mm,SUS304 优质不锈钢真空腔室,前开门结构; 2.真空系统:复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计; ★3.真空极限 6.0×10-5Pa(设备空载,抽真空 24 小时); ▲4.升压率:设备升压率:≤0.8Pa/h(12 小时平均值); 设备保压:停泵 12 小时后,设备真空度≤10Pa; ★5.抽速:从大气抽至 5.0×10-3Pa≤15min(设备空载); 从大气抽至 5.0×10-3Pa≤10min(设备空载,干燥氮气环境); 6.基片台:①基片台尺寸 Φ120mm,最大样品尺寸小于 Φ120mm;配有基片台挡板; ②旋转转速 0~20 转/分钟,可调可控;基片台与腔室绝缘设计,可加偏压电源; ▲③加热:室温~500±1℃(基片台环境温度);PID 智能温控闭环控温,可控可调。 ★7.溅射靶及电源:①配置 3 套 2 英寸永磁共焦磁控溅射靶(靶角度、靶基距手动可 调),向上溅射;②工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作,采用磁控靶从下向上溅 射镀膜;③电源:直流脉冲溅射电源 1kW,数字化控制及显示,2 台; 射频电源 500W, 数字化控制及显示,1 台; 脉冲偏压电源:-1kV, 数字化控制及显示,1 台。 ▲8.工作气路系统:质量流量控制器及量程范围:Ar,100sccm;O2,10sccm; 9.膜厚不均匀性:≤±5%(单靶镀膜,基片台 Φ75mm 范围内); 10.控制方式:PLC+触摸屏控制; ▲11.软件:手/自动控制方式,能够通过显示屏实时显示系统真空,工艺参数及工艺 过程历史数据、报警的记录等;可以实现工艺菜单灵活编辑(可以在工艺编辑软件 进行模块化的工艺菜单编辑)+工艺菜单自动控制执行模式(载入工艺菜单,支持实 现无人值守或远程网络控制镀膜);(要求响应时提供系统功能截图证明) 12.报警及保护:对缺水进行报警并执行相应保护措施;完善的逻辑程序互锁保护 系统; ▲13.辅助设备:随机配备冷却循环水机,小型静音空气压缩机各 1 台; ▲14.靶材:随机配备 2 英寸钴、银、锰靶材各 1 块。 | |||