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化工及化学试剂供应商库寻源公告
****始终秉承阳光透明的采购原则,致力于构建稳定、高效、共赢的供应链体系。****公司的生产发展需求,现面向**公开征集优质供应**,旨在通过本次寻源筛选具备实力的**伙伴,建立长期战略**关系,共同推进供应链的可持续发展。一、寻源基本信息
1、需求:
(1)通用化学试剂(包括不限于无水乙醇、甲苯、丙三醇、硼酸、硫代硫酸钠、氯化镍、添加剂DBP、二乙二醇丁醚醋酸酯(DBAC)、369酸盐等)
例:无水乙醇:年采购量约23000L;甲苯:年采购量约20000L
硼酸:年采购量约800kg;硫代硫酸钠:年采购量:160Kg
氯化镍:年采购量约300kg;369酸盐:年采购量:100Kg
(2)清洗液(剂):年采购量约23000Kg
(3)刻蚀液(包括但不限于Au刻蚀液、NiCr刻蚀液、TiW刻蚀液和Ni刻蚀液等):年采购量约2400Kg
(4)除胶液:年采购量约5000Kg
(5)稀释剂:年采购量约100Kg
(6)显影液:年采购量约800Kg
(7)剥膜液:年采购量约300Kg
(8)保护剂:年采购量约25L
(年度需求数量根据采购计划确定,具体以实际订单为准)
2、产品核心技术与品质要求
(1)通用试剂:化学试剂纯度应符合国家标准或行业标准。具体纯度根据详细需求确定。
(2)清洗液(剂):用于电子元器件和机械加工金属零部件、组件等的清洗。适用于超声波、浸泡、喷洗、气相清洗等清洗方式,清洗能力强,挥发速度快。
(3)刻蚀液:应用于半导体制作和薄膜电子技术中不同基底的选择性控制蚀刻作业。应符合国家标准或行业标准,刻蚀速率和图案均匀,与光刻胶匹配性好。
(4)除胶液:除去于各类电子元器件、金属零部件、组件和机床设备表面的残留物,保证产品表面清洁。外观无色至淡黄色透明液体,具备稳定的光刻胶及碳化残胶剥离速率,对基底低腐蚀。
(5)稀释剂:常温常压下储存,在搅拌、流延过程中不易挥发,与粉体分散剂相容性好。
(6)显影液:能使曝光的正性光刻胶显影的高纯净有机溶液。在显影过程中,根据显示图象情况用显影液采用冲洗,喷淋或浸泡等形式将曝光后的光刻胶除去,并同时保护好基体。
(7)剥膜液:碱性有机配方,不含苯环致癌物,用于各型正胶和负胶,对各型胶膜有很强的剥离和溶解能力,且对金属层不腐蚀。
(8)保护剂:元器件、组件表面防护、防止氧化腐蚀、飞弧;要求成膜均匀,抗氧化,防腐蚀,绝缘性能稳定。
(8)环保与安全要求:所有化学试剂应符合国家环保法规要求,供应商须提供产品的MSDS(材料安全数据表)。
3、交货地点
四****开发区(**驿)星光中路20号
**省**市**驿区合文东路58号
二、供应商资格条件与需提交的资格审查资料
1.响应资料格式:资格条件及响应资料请下载附件“供应商库公开寻源响应文件”,按附件内容要求进行提供并加盖鲜章,如有涉密需求,可接受脱密处理。标书代写
2.提交地址:供应商应于 2026年 10月30日前将资格审查资料(纸质版 1 份)密封后送达,可邮寄,邮寄以实际签收时间为准,逾期不予受理。地址:四****开发区(**驿)星光中路20号;联系人:尹女士;电话:028****7220。
三、遴选流程
1. 资料审核:****小组对提交资格审查资料的完整性、符合性进行初审;审查过程中如有疑问会与供应商进行沟通,请供应商保持联系方式畅通。如需补充资料,请供应商在收到补充资料通知之日起三个工作日内递交。递交资料如仍不合格,将认定为审核不通过。
2. 现场考察(可选):对初审合格供应商,评审小组可根据资料情况选择性开展现场考察(核实设备、生产场地、人员等实际情况);
3. 结果公布:评审结束后对最终评审结果予以公示,公示期3个自然日。
4. 入库确认:公示无异议后,向入选供应商发出《供应商库入库通知书》。供应商对资格审查结果有异议的,可在公示期内,向我司提交书面异议材料,我司将予以答复;逾期不予受理。
四、后续流程说明
样品测试
经过资质审核通过进入宏科供应商**库的供应商,需按我司指定型号寄送样品,进行品质检测、上机测试。样品测试通过的供应商,将纳入宏科合格供应商进行管理。
五、联系方式
若供应商在报名及资格审核阶段有疑问,可通过以下方式联系咨询:
联系人:尹女士
联系电话:028****7220
咨询邮箱:****@chinahongke.com
六、其他说明
本次寻源仅为前期供应商筛选环节,不代表最终定价结果,年度采购数量仅为预估,不构成采购承诺,不保证入库后一定获得订单,宏科电子对本次寻源的所有流程及结果拥有最终解释权;
本公告所有附件为本公告不可分割部分。
供应商提交的所有报名材料需真实、有效,若发现存在虚假信息或隐瞒重要事实的情况,将立即取消其参与资格,并在一定期限内禁止参与后续**;本次公开寻源宏科电子不向供应商收取任何费用,请注意防范各类虚假信息,避免造成不必要的损失。
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2026年10月23日