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高真空多靶磁控溅射镀膜机结果公告

结果-中标通知

山西 -太原

发布时间： 2026年10月26日

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磁控溅射镀膜机公告

招标详情

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相关单位：

***********公司企业信息

中标信息

中标供应商：	****
选择理由：	总价最低，推荐成交
质疑投诉说明：	如有质疑，请在三个工作日内将质****学校采购管理部门，逾期不予受理。

项目名称	高真空多靶磁控溅射镀膜机	项目编号	****
项目编号	****
公告发布日期	2026/10/21 10:03	公告截止日期	2026/10/26 10:03
公告截止日期	2026/10/26 10:03
采购单位	****
联系人	中标后在我参与的项目中查看	联系手机	中标后在我参与的项目中查看
联系手机	中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务	否	是否需要踏勘	否
是否需要踏勘	否
踏勘联系人		踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点		踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算	￥250,000.00	成交金额	￥245,000.00
成交金额	￥245,000.00
送货/施工/服务期限	自合同签订之日起10天内完成设备的运输、安装、调试。
送货/施工/服务地址	****主校区
售后服务	（1）自货物技术验收合格之日起，软件系统、硬件提供1年的免费保修服务；质保期内无条件免费维护以及升级；（2）所有设备质保期内提供 8小时上门服务，确保1个小时内响应，要求3小时到达现场，4小时修复故障，若不能修复，需要在 48小时内提供备件到达用户使用现场。（3）免费提供用户培训服务，培训时间及形式灵活，达到用户完全掌握。
付款条款	合同生效后发货前预付30%，货到验收合格后支付70%
其他说明	无

采购清单

采购内容		数量单位	分项报价
高真空多靶磁控溅射镀膜机		1(套)	￥245,000.00
是否进口	否
指定品牌及型号	/
技术参数要求	★1.真空腔室：φ350×H400mm，SUS304 优质不锈钢真空腔室，前开门结构； 2.真空系统：复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计； ★3.真空极限 6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空 24 小时）; ▲4.升压率：设备升压率：≤0.8Pa/h（12 小时平均值）；设备保压：停泵 12 小时后，设备真空度≤10Pa； ★5.抽速：从大气抽至 5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）；从大气抽至 5.0×10-3Pa≤10min（设备空载，干燥氮气环境）； 6.基片台：①基片台尺寸 Φ120mm，最大样品尺寸小于 Φ120mm；配有基片台挡板； ②旋转转速 0～20 转/分钟，可调可控；基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源； ▲③加热:室温～500±1℃（基片台环境温度）；PID 智能温控闭环控温，可控可调。 ★7.溅射靶及电源：①配置 3 套 2 英寸永磁共焦磁控溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向上溅射；②工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从下向上溅射镀膜；③电源：直流脉冲溅射电源 1kW，数字化控制及显示，2 台；射频电源 500W，数字化控制及显示，1 台；脉冲偏压电源：-1kV，数字化控制及显示，1 台。 ▲8.工作气路系统：质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；O2，10sccm； 9.膜厚不均匀性：≤±5%（单靶镀膜，基片台 Φ75mm 范围内）； 10.控制方式：PLC+触摸屏控制； ▲11.软件：手/自动控制方式，能够通过显示屏实时显示系统真空，工艺参数及工艺过程历史数据、报警的记录等；可以实现工艺菜单灵活编辑（可以在工艺编辑软件进行模块化的工艺菜单编辑）+工艺菜单自动控制执行模式（载入工艺菜单，支持实现无人值守或远程网络控制镀膜）；（要求响应时提供系统功能截图证明） 12.报警及保护：对缺水进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统; ▲13.辅助设备：随机配备冷却循环水机，小型静音空气压缩机各 1 台； ▲14.靶材：随机配备 2 英寸钴、银、锰靶材各 1 块。

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