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| 半导体材料生产线提质扩产技术改造项目 |
| **市-**区 |
| **省**市****科技园 |
| 12500万元 |
| 项目围绕高纯度刻蚀用硅材料(单晶硅、多晶硅)开展生产线升级改造与产能扩充。改造建设洁净生产车间、原料及成品仓储区、检测实验室、配套动力及环保辅助设施;购置单晶炉、抛光设备、高纯清洗系统、精密检测设备等生产及检测装备;优化晶体生长、精密加工、高纯清洗、表面处理等核心工艺,提升产品纯度、尺寸精度与表面质量指标,稳定供给集成电路刻蚀环节配套硅耗材。项目同步配套改造供配电、纯水、废气废水收集处理等公用工程,建成后实现高纯度刻蚀用单晶硅、多晶硅材料提质扩产。主要产品为高纯度刻蚀用硅材料(单晶硅、多晶硅),项目竣工达成后可形成年产42.5万公斤高纯度刻蚀用硅材料的生产能力 |
| 2026年11月 |
| 2029年10月 |
| 备案类 |
| 未备案 |