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松山湖材料实验室磁控溅射镀膜系统采购项目
招标详情
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***********公司企业信息
****2026年11月至2027年01月政府采购意向-****磁控溅射镀膜系统采购项目 详细情况
| ****磁控溅射镀膜系统采购项目 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年11月至2027年01月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | ****磁控溅射镀膜系统采购项目 |
| 预算金额： | 780.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
标的名称:磁控溅射镀膜系统 标的数量:1 主要功能或目标:设备配备装载互锁loadlock腔体、晶圆传输腔体及4个工艺腔体。能实现AlScN薄膜（30%钪原子浓度）、AlN薄膜、金属Mo薄膜的生长溅射，能通过Ion Beam Trimming工艺更进一步优化薄膜的膜厚均匀性。 需满足的要求:支持4~8英寸；真空度5x10-7 Torr；双靶双电源，带旋转台，无加热无偏压。AlN膜均匀性≤0.2 %，片间<0.1%, 取向半宽高<1.5度，应力±50Mpa；AlScN膜均匀性≤0.3%，片间<0.1%, 取向半宽高<1.7度；应力±100Mpa；Mo膜均匀性≤0.5 %，片间<0.3%，取向半宽高<2度；应力±50Mpa。轰击优化膜厚速率≥2.6nm/分, 均匀性<1nm, 精度<±1
|
| 预计采购时间： | 2027-01 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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