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| ****化学气相沉积设备采购项目 | |
| 项目所在采购意向: | ****2026年11月至2027年01月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | ****化学气相沉积设备采购项目 |
| 预算金额: | 850.000000万元(人民币) |
| 采购品目: | |
| 采购需求概况 : |
标的名称:化学气相沉积设备 标的数量:1 主要功能或目标:用于InP/GaAs外延生长,满足6片2英寸或3片3英寸衬底,配备三区控温加热、旋转、真空、多路MO源及PH/AsH、N/H载气单元、真空干泵、水浴槽、PLC控制、安全互锁、原位监测及手套箱,含运输安装调试。 需满足的要求:反应腔漏率≤1×10mbar﹒L/s、控压精度≤±1%;温控最高1250℃;旋转0~100RPM、精度±0.5RPM;真空5.0~1000mbar可调;MO源12路;配PH/AsH及N/H供气路、Ebara或同级别干泵、8个恒温水浴槽、PLC、安全互锁、原位监测及手套箱。
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| 预计采购时间: | 2027-01 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写