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松山湖材料实验室刻蚀机设备采购项目
招标详情
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***********公司企业信息
****2026年11月至2027年01月政府采购意向-****刻蚀机设备采购项目 详细情况
| ****刻蚀机设备采购项目 | |
| 项目所在采购意向： | ****2026年11月至2027年01月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | ****刻蚀机设备采购项目 |
| 预算金额： | 520.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
标的名称:刻蚀机设备 标的数量:1 主要功能或目标:用于InP和GaAs材料的光芯片的图形化制备 需满足的要求:主要为满足高精度、低损伤的微纳加工需求：实现化合物半导体（GaN、SiC、GaAs、InP等）的高速率、各向异性精细刻蚀，并在纳米尺度独立调控离子能量与密度以降低器件损伤；同时支持ICP-CVD低温沉积高质量介质膜，兼容温度敏感材料，支撑光电子、功率器件及MEMS研究。
|
| 预计采购时间： | 2027-01 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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