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| 原子级沉积系统 | 1.0/ | 普迪 | ALD-T200G | 1.腔室:外热式单腔腔室,加热结构在真空室外。 2.样品台配有可拆卸片托,可放置200X200mm及以下尺寸; 3.反应温度:最高150°C ,温度控制精度±1°C。 4.三路标准加热前驱体源,配置Swagelok高温快速ALD阀 (响应时间<10ms) 、手动隔膜阀和50mL不锈钢源瓶, 源瓶及管路加热温度室温至200°C,控制精度± 1°C 5. 一路水源,配置Swagelok高温快速ALD阀 (响应时间<10ms) 、手动球阀和50mL不锈钢源瓶 ; 6.含两路载气系统,全套管路+VCR密封,前驱体源管路具有在线清洗功能; 7.高性能真空系统,整机极限真空<5× 10-3 Torr, 真空漏率<5× 10-7Pa ﹒L/s; 8.配置机械泵,额定抽速>60m3/h; 9.空泵前级配置热阱,加热温度最高600°C ,控制精度± 1°C ,用于吸附、分解未反应的前驱体源; 10.压力传感器(真空计),真空计前设有保护真空计的高效过滤网,沉积过程中可以实时监测显示腔室压力的变化。 | 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务) |