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激光直写光刻机（JLU-KC26074）采购公告

公告-招标公告

吉林 -长春

发布时间： 2026年11月11日

标书代写官方

摘要信息

招标单位

招标编号

招标估价

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招标代理机构

代理联系人

报名截止时间

投标截止时间

关键信息

激光采购公告

招标详情

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相关单位：

***********公司企业信息

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

激光直写光刻机	****
2026-11-11 09:54:26	2026-11-16 10:00:00
****	货到验收合格办理相关手续后100%付款。

	国内合同签订后30个日历日内
￥930000.00




**未来**实验室 1号楼 4楼 406室
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

激光直写光刻机

台

激光仪器

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

苏大维格

Microlab-Ⅳ

￥ 930000.00

1.光学（写）头 2：包括但不限于 A (NA0.45）、B（NA0.8）； 2.空间光调制器：DMD 0.95"（1920*****@10.8μm/Pixel）; 3.曝光光源：DPSSL ≤355nm，800mW 功率，≥15000h 寿命； 4.运动轴：4 轴（X,Y,Z，θ）； X、Y 轴有效行程 200mm，位置反馈分辨率 10nm；θ转动角度范围±7.5°； 5.Z 轴有效行程 15mm； 6.有效光刻幅面：200mm×200mm，具备分区真空吸附功能； 7.支持 5mm×5mm--8 英寸基片，支持基片厚度 0-15mm； 8.Z 轴自动聚焦行程范围：0-200μm； 9.采用柜式整机结构，**石基座，自带高精密气浮隔振系统； 10.（音圈电机）自动聚焦检测，实时聚焦模式；Z 向预校正，聚焦轴调节分辨率 10nm； 11.最小结构尺寸：0.5μm； 12.套刻对准精度：±0.5μm； 13.具备自动对位和手动对位两种对位模式； 14.配备自动标记识别功能，可快速自动识别用户自定义标记对准； 15.支持步进曝光、阵列图形重复曝光、多任务曝光等多种曝光模式； 16.支持 0-255 阶 3D 光刻； 17.直写速度： 75mm2/****@0.5μm； 250mm2/min@1μm； 18.支持数据处理支持 GDSII、BMP 等格式； 19.提供分布式架构的光刻写入控制软件，数据处理软件支持大尺寸 BMP 图像处理模块、小尺寸 BMP 图像重复、大尺寸 BMP 图像拼接；可视化定点曝光支持二维材料定点可视化曝光，能够通过显微镜下原位画图的方式，实现定点曝光的功能。软件中可以编辑多边形结构，包括大小、形状、角度以及位置移动、复制等功能。 20.设备操作界面：包含但不限于产品生产界面、产品参数设定界面、状态监控界面等；具备用户分级管理功能；软件支持优化和升级免费；故障、生产工艺参数等记录等应可长期保存备查；

服务网点:外地;电话支持:7x24小时;服务年限:一年;服务时限:报修后2小时;商品承诺:原厂全新未拆封正品;质保期:一年;培训，安装，调试到货时1次;

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