4英寸低温背景离子刻蚀机延期公告

发布时间: 2026年11月15日
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4英寸低温背景离子刻蚀机延期公告

延期信息
延期理由: 有效供应商不足三家采购方决定延期
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项目名称 4英寸低温背景离子刻蚀机 项目编号 ****
公告时间 2026/11/15 11:00 报价截止时间 2026/11/18 11:00
联系人 成交后在我参与的项目中查看 联系手机 成交后在我参与的项目中查看
采购预算 ¥385,000.00
采购单位 ****
送货期限 合同生效之日起180日内
送货地址 **市**区**路67号****南校区第一实验楼510
付款方式 货到验收合格付全款


采购清单
1
货物名称 数量 品牌 型号 预算总价(元) 质保期
4英寸低温背景离子刻蚀机 1 不限定品牌 不限定型号 385000 1年
技术参数要求 直流考夫曼型离子源:氩离子束物理刻蚀,4吋范围刻蚀不均匀性在5%以内,束压0-1000V束流0-100mA。卧式刻蚀无油真空系统:系统极限真空8×10-5Pa,大气至本地5×10-4Pa时间小于40分钟,工质氩气质量流量计控制。水冷旋转可变角度复合工件台:旋转速度可调,角度可变。背景温度-20~25℃。操作模式:手动+自动
售后服务 期内免费维修,2小时响应、48小时到场;期外终身维修、优惠配件、终身免费工装夹具加工。


招标进度跟踪
2026-11-15
流标公告
4英寸低温背景离子刻蚀机延期公告
当前信息
2026-11-12
招标公告
4英寸低温背景离子刻蚀机
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