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| 有机-金属真空热蒸镀仪 | 1.0/台 | **方昇 | 设备技术参数 1样品架系统 ▲1.1标准的样品盘可以容纳100X100mm的基片。 1.2基片盘可旋转,采用伺服电机驱动,旋转速度0-30转/分可调; 1.3掩膜板到基片的距离小于0.2mm. 2蒸发源 ▲2.1至少有4组蒸发源,可兼容蒸镀金属和有机材料; 2.2源与源之间配备隔板,可有效隔绝一定的温度,并避免源与源之间相互污染; 2.3配1套蒸发电源,功率1.4KW以上,采用进口知名品牌,用于蒸发金属和有机材料,可切换到20组蒸发源中任意1组。蒸发源电源具有恒流和恒压二种驱动模式,二者可切换。蒸发电源可以通过软件控制,具体二段或以上升温过程控制,一段降温过程控制,也可以手动控制,此外,蒸发电源还可以通过膜厚仪PID(闭环控制),自动调节蒸发速率; 2.3金属蒸发源均带有水冷功能。 3膜厚测量系统 3.1采用石英晶振膜厚仪在线测量膜厚,采用进口知名品牌,可以实时测量蒸发的速度和厚度; 3.2膜厚仪速率测量显示精度优于0.01A/S,厚度精度优于1A;频率分辨率0.01Hz,可以PC机上操作,带有PID环功能,可通过膜厚仪自动控制蒸镀速率。 4蒸发腔体 4.1腔体采用SUS304不锈钢制作,其内部尺寸≥300×300×530mm; 4.2腔体为方形,有前后二个可完全打开的门,一个为滑动式开启,用于连接手套箱,一个为旋转开启或滑动式开启,用于维护清理; 4.3腔体内表面采用电解抛光处理,表面精糙度小于等于0.8;外表面采用拉丝抛光,表面精糙度小于等于0.8;整体要求美观,无擦伤及划痕; 4.4腔体漏率:整体漏率优于5×10-10 Pa.m3/S,保压12小时,压强小于10Pa; 5、蒸镀软件控制系统 5.1采用PLC+PC机控制模式; 5.2真空系统通过工控机控制机械泵、气动阀、闸板阀、分子泵的启动和停止,软 件中含有各个电气设备的软件互锁和状态反馈,确保设备的安全 | 质保及售后服务:货物的免费保修期为1年,时间自最终验收合格并交付使用之日起计算。 |