小型磁控溅射镀膜机项目采购信息公开(科研仪器设备类)

发布时间: 2024年11月22日
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2024/11/21 17:26:06

一、采购单位:****

二、项目名称:小型磁控溅射镀膜机

三、公开信息:

1.设备名称:小型磁控溅射镀膜机

2.数量:1

3.关键技术指标:1.真空镀膜室:304 不锈钢材料,圆柱式,门上配有观察窗;镀膜室内净尺寸约为:300* 300 H300mm(以最终设计为准); 2.真空极限:优于 8*10 - 5 Pa; 3.旋转加热基片台:承载最大直径 75 mm 基片;基片台磁流体密封,电机驱动基片台旋转, 旋转速度 0-20 转/分钟可调;配挡板。样品台加热温度室温~350°;

4.预算金额:168,000.00元

5.拟成交供应商:****

6.拟成交价格:168,000.00元

****

2024年11月21日


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附件(1)
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2024-11-22
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小型磁控溅射镀膜机项目采购信息公开(科研仪器设备类)
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