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| 原子层沉积系统 | **迈****公司 | 440000.00 | 430000.00 | 质保期1年。 | [{"key":1,"value":"1) 适用于8英寸以及小尺寸样品薄膜沉积,RT-400℃,精度±1℃;\n2) 反应腔材质为316L不锈钢,底座整块材料加工,腔体表面抛光后电解;\n3) 设备本底真空优于3 Pa;设备漏率≤ 5×10-10Pa﹒m3/s;\n3) 采用高稳定性的PLC+工业触摸屏,触摸屏尺寸不小于15.6英寸;\n4) 多种沉积模式:快速模式、充分暴露模式和多元掺杂模式;\n5) 常温源1路,加热源4路,载气辅助源1路;\n6) 配备三孔ALD阀门(响应时间<5 ms,阀体内置直径为1/8英寸加热器,温度范围RT-200 ℃);\n7) 配备臭氧发生器、臭氧破坏器、MFC(量程0-200 sccm),臭氧产量可达20 g/h,浓度可达100 g/m3;臭氧发生器采用风冷方式无需配备冷却水,尺寸不大于510*510*210 mm;\n8)真空测量:压力传感器检测范围:5*10-4~1000 mbar;\n9)系统可实现配方编辑、保存、读取等功能,所有ALD阀门具备自动排空功能,所有管线具备自动清洗功能;","important":true}] | 1.0 | MNT-S200Oz-L5S1 | 430000.00 | **** |