单片清洗机（等离子清洗机）设备采购采购公告

是否接受进口

拒绝进口

品牌

稷以、诺信、Plasma

型号

Triton 160、March AP-100、Tetra 150

技术规格及参数

一、详细配置
1.1 射频电源与匹配器
1.1.1 选用13.56MHz射频电源。
1.1.2 最大功率1200w。
1.1.3 全自动高速匹配器，可迅速匹配至最优输出功率与最小反射功率，支持预匹配功能。
1.1.4 使用真空可调电容，匹配系统具有优秀的稳定性、可重复性与耐用性。
1.2高真空腔体、与进/排气系统
1.2.1 腔体有效尺寸:>518W x 518H x 648D mm。
1.2.2 可选配多种电极结构配置，包括射频电极（实心、镂空），地电极（实心、镂空），悬浮电极以及其它定制电极形式。
1.2.3 标配2路工艺气体，通过质量流量计控制，最大可扩充至5路工艺。可按工艺需求指定流量计量程（如50/100/200/500sccm等）。
1.2.4 采用干泵，抽速80m3/h。
1.2.5 真空计有效量测范围1~100000mTorr。
1.3 软件与系统控制
1.3.1通过PLC与工业级PC协同控制，基于Win7系统的专用控制软件，乙方具备软件著作权，可支持后续对软件功能的定向开发。
1.3.2可设置工艺程序数量不受限，以文件形式保存在硬盘上，便于管理备份。
1.3.3 具备完善的设备参数监控，可对射频功率、气体流量、腔体压力等工艺数据进行实时监控与报警定义，当系统发生异常时及时报警提示。
1.3.4 软件可自定义设置多级权限控制（主管级、硬件工程师、工艺工程师、技术员与操作员级等等），可设置不同用户名，归入各级控制权限内。
1.3.5软件具有独立的数据库，可存储系统日志（event log）与工艺数据（data log）以便随时追溯。数据可随时导出，便于厂家存档备份。
二. 技术指标
2.1. 工艺效果
2.1.1 根据客户要求，可实现8寸wafer 清洗活化用途；
2.1.2 经合适的等离子工艺处理后，产品表面水滴角可达到30°以内或者客户指定范围。
2.1.3 产品处理后表面无异色，无烧灼。
2.2 设备硬件指标
2.2.1 低压可在120s内降到100mTorr以下，工艺腔体极限真≤20mTorr，极限真空后压升≤20mTorr/min
2.2.2 射频功率50~1200w连续可调。设定200w以上时，误差值<10w。
2.2.3 匹配器将射频功率匹配到最佳值的时间≤3s。
2.2.4 流量计最小气流量>满量程2%，气体流量误差≤该流量计满量程的1.5%。
2.3 产能与稳定性
2.3.1 工艺腔体的单个工艺周期≤5min（以射频工艺时间3min计算）。
2.3.2 MTBF>336h。
2.3.3 MTTR<1h。
三、所响应产品必须是全新、未使用过的原装合格正品（包括零部件），如安装或配置了软件的，须为正版软件。

质保期

设备验收合格之日起1年计算。

售后要求

1.保修期内，若设备发生故障，供应商在接到买方的设备故障通知后，24小时内赶到现场，保修期内的维修服务和除消耗品以外的零部件的更换属于无偿的。 2.设备保修期内出现的顽疾如未能彻底解决或反复出现，即使过保后，供应商须无偿解决并补签备忘录。 3.保修期外，若设备发生故障，供应商应在接到买方设备故障通知后48小时（特急情况24小时）内抵达用户现场。 4.设备保修期满后，供应商工程师每年回访买方一次，买方在设备方面遇到问题时，供应商工程师应尽力解决。 5.设备最终验收前，供应商负责对买方的技术人员免费进行为期一周的操作技术及维护保养培训，培训内容包括设备的安装、使用、日常维护与保养，故障的排除，安全操作等。 6.技术培训应达到实际效果，要使买方的技术人员熟练操作设备，并掌握设备日常维护与保养方法。 7.在设备保修期内，若买方技术人员对设备有其它使用技术上的要求，供应商应通过电话/传真等方式及时对技术人员提供所需的技术指导。